克服100奈米以下製程光罩缺陷 反射光圖形檢測效果倍增

2007 年 01 月 29 日
反射光在超紫外線微影技術世代的應用甚為重要。本文將分三期介紹如何在65奈米製程中,利用反射光來增強光罩圖案的檢測,本期首先探討傳統鉻膜式光罩及半透光罩在反射光下的特性,下期將討論圖形背景及圖形陣列的兩個規則,並剖析其是否會影響110~65奈米製程的檢測能力。
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